韩国媒体：韩国企业在EUV光刻技术方面取得了长足的进步
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[第1001号]
根据BusinessKorea的一份报告，韩国当地公司在EUV光刻技术方面取得了重大进展。根据韩国知识产权厅发布的《过去10年（2011～2020年）专利申请报告书》，向韩国知识产权厅提交的EUV光刻相关专利申请数量在2014年达到88件，2018年达到55件，2019年达到50件。特别是，韩国企业在极紫外光刻技术方面正在迅速缩小与外国企业的差距。2019年，韩国提交了40项国内专利申请，超过了外国公司的10项。这是韩国的专利申请数量首次超过国外。到2020年，来自韩国的申请量也将是海外申请量的两倍以上。在过去的十年中，三星电子和其他全球性公司进行了密集的研究和开发，以确保其技术领先地位。最近，代工公司已经开始使用5nm EUV光刻技术来制造智能手机应用处理器。按公司划分，Carl Zeiss（德国）占18%，三星电子（韩国）占15%，ASML（荷兰）占11%，S & S Tech（韩国）占8%，台积电（台湾）占6%，SK海力士（韩国）占1%。从具体技术项目中，工艺技术专利申请占32%，曝光设备技术专利申请占31%，掩膜技术专利申请占28%，其他专利申请占9%。在工艺技术领域，三星电子占39%，台积电占15%。在光掩膜领域，S & S Technology（S & S Technology）占28%，Hoya（日本）占15%，汉阳大学（韩国）占10%，旭硝子（日本）占10%，三星电子占9%。（图片来源：Love's Micro app）